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廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收

來源:那諾-馬斯特中國有限公司  發布時間:2022/10/18 12:31:39  點擊次數:1742

  近日,NANO-MASTER工程師至廣西師范大學,順利安裝驗收NRE-3000型RIE反應離子刻蝕系統!

詳細參數:

1.  腔體:10”直徑的圓柱形腔體;陽極氧化鋁材質,抗腐蝕性強;上下蓋設計,氣動升降頂蓋,一鍵實現上蓋的開啟/閉合;淋浴頭設計,較佳的氣流均勻分布

2. 樣品臺:4”樣品臺;冷卻功能;偏壓功能,支持各向異性的垂直刻蝕;

3. 質量流量控制器:4路氣體,每路包含MFC、氣動截止閥和不銹鋼管路氣體

4. 真空系統:分子泵與機械泵,4分鐘內可達10-4Torr的高工藝真空度,12小時抽氣后,干凈腔體中的壓力可達極限真空6x10-7 Torr;分子泵與工藝腔體采用直連設計方案,具有較佳的真空傳導率

5. 射頻電源:13.56MHz,300W,反射功率≤5W,配套自動調諧器,穩定輸出功率為95%

6. 控制系統:Lab View軟件控制;四級密碼授權訪問;壓力、流量、功率等主要參數指標實時顯示;20”的監控屏幕

7. 系統信息:26”×26”占地面積;鋁質柜體;的安全聯鎖

8. 主要工藝參數

(1)應用范圍:有機物刻蝕、硅的化合物刻蝕、光刻膠去膠等;

(2)工藝參數:4”片為例;

(3)刻蝕均勻性優于:+/-3%;

(4)Si3N4的刻蝕速率:≥50nm/min;

(5)對PR選擇比:≥1.5:1;

(6)陡直度:≥82°;

(7)SiO2的刻蝕速率:≥40nm/min;

(8)對PR選擇比:≥1.5:1;

(9)陡直度:≥85°。

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